射頻(pín)磁(cí)控(kòng)濺(jiàn)射鍍(dù)膜(mó)裝置(zhì) 型(xíng)號(hào)：DP-RM-1

主(zhǔ)要用(yòng)途(tú)：本設備主(zhǔ)要用於(yú)大專(zhuān)院校研(yán)究(jiū)和(hé)開發納米級(jí)單(dān)層膜；如各(gè)種硬質(zhì)膜(mó)，金(jīn)屬(shǔ)膜；也(yě)可以(yǐ)是非(fēi)金屬(shǔ)，化合物等(děng)薄膜材(cái)料。可(kě)以行直(zhí)接(jiē)濺(jiàn)射，亦可(kě)以實現反(fǎn)應(yīng)濺(jiàn)射。

主要特點(diǎn)：結(jié)構簡捷(jié)，操作簡(jiǎn)便，真空度維護(hù)，安(ān)可(kě)靠。

鍍膜(mó)機應(yīng)安裝在(zài)幹(gān)淨無(wú)塵(chén)埃(āi)，無(wú)腐蝕(shí)性氣體(tǐ)的(dí)室內，並具備清(qīng)潔(jié)水源(yuán)，及220V的穩定電壓等(děng)條(tiáo)件(jiàn)的(dí)地方。

1，地(dì)麵的(dí)基本水平度(dù)要經過(guò)調整(zhěng)，不(bù)得低不(bù)平；

2，環(huán)境溫度(dù)：10℃～30℃；

3，相(xiāng)對(duì)濕度：不(bù)大(dà)於75%；

4，耗(hào)水量（水(shuǐ)溫(wēn)度(dù)≤25℃，2.5Kg≥水壓(yā)≥1.5Kg）：約(yuē)0.2T/h；

5，水質要(yào)求：

矽酸(suān)硬度(dù)<6度，PH值：7－8，電(diàn)導率(shuài)：200us/cm,沉積(jī)率：<200mg/L。

6，電(diàn)壓(yā)： 220V，50H_Z，

電(diàn)壓波(bō)動(dòng)範圍： 198～231V；

頻率(shuài)波(bō)動範圍：49～51Hz;

7，水壓(yā)：0.3～1Kg/cm²或0.03～0.1MPa/cm²;

8，充入(rù)氣(qì)體純度99.9%或(huò)以上;

9，鍍膜(mó)用耗(hào)材(cái)純(chún)度(dù)99.9%或(huò)以上(shàng)。

北(běi)京(jīng)亞(yà)歐德鵬科(kē)有限公(gōng)司(sī)
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